4月29日上午,英国皇家科学院院士、英国皇家工程院院士John Robertson做客经世致用讲坛,在综合楼108报告厅作“场效应晶体管中的新型电子材料”主题报告。
John Robertson聚焦新一代半导体材料与器件设计,重点探讨了p型金属氧化物(p-MOS)晶体管的性能优化路径。他结合实验数据指出,通过硅基通道与二氧化物界面调控,可显著提升晶体管在高频环境下的稳定性与能效。此外,针对材料在高温低压条件下的应用瓶颈,他提出了仿生结构设计与纳米级复合材料合成的创新思路。Robertson还展示了人工智能技术在材料研发中的实践成果。例如,通过机器学习模型与高通量计算相结合,能够快速筛选出具有潜在应用价值的高性能材料,并精准预测其物理化学性质。他强调,AI技术虽可大幅缩短研发周期,但其预测结果必须与传统实验验证形成闭环,才能确保科学结论的严谨性。
在互动环节,John Robertson围绕多个技术难点展开讨论。针对青年学者提出的“如何平衡理论研究与产业化需求”,John Robertson指出,需建立多尺度模拟—原位表征—工程反馈的动态研究框架,通过跨学科协作攻克技术壁垒。他强调,材料科学已进入人工智能、物理学与工程学深度融合的新阶段,学术界与产业界需要共建开放创新平台,加速从实验室成果到产业应用的转化进程。
本次活动由党委研究生工作部主办,半导体学院、功率半导体与集成技术全国重点实验室、长沙半导体技术与应用创新研究院承办,湖南省科学技术厅指导,全校200余名师生参与。


活动现场。
来源:研工部 半导体学院
通讯员:韩晓明 李潇 冯雅
学生编辑:彭静怡
责任编辑:余楚倩